glenresearch 10-1037說明書

氨基修飾劑C2 dT

5'-二甲氧基三苯甲基-5- [N-（三氟乙酰氨基乙基）-3-丙烯酰亞胺] -2'-脫氧尿苷，3'-[（2-氰基乙基）-（N，N-二異丙基）]-亞磷酰胺

產品規(guī)格

式：

C ₄₆ H ₅₄ N ₆ O ₁₀ F ₃ P

兆瓦：

938.94

固件：

402.30

CAS號：

198080-39-6

描述

序列修飾符設計用于自動合成。羧基-dT在脫保護過程中被水解，并且可以通過標準肽偶聯(lián)或通過中間體N-羥基琥珀酰亞胺（NHS）酯直接偶聯(lián)到含有伯氨基的分子上。在寡核苷酸合成過程中，可以分別添加氨基修飾劑dA，氨基修飾劑dC，N2-氨基修飾劑dG和兩種氨基修飾劑dT產品，分別代替dA，dC，dG和dT殘基。相應的氨基修飾劑支持物可以代替它們各自的脫氧核苷支持物。脫保護后，C6類似物上的伯胺通過總共7 -10個原子的間隔臂與寡核苷酸分離，并可以標記或連接到酶上。

細節(jié)

用法

• 偶聯(lián)：氨基改性劑C2 dT的反應方式與普通亞磷酰胺相同。為防止副反應，請使用乙?；Ｗo的dC進行合成。有關更多詳細信息，請參閱解除保護。
• 脫保護：無需更改合成儀制造商建議的標準方法。在標準氫氧化銨脫保護過程中，將TFA保護基去除。氨脫保護過程中發(fā)生的少量副反應可能導致不可逆地封端2-5％的胺。如果多次添加修飾符，這可能很重要。為了防止反應，使用乙?；Ｗo的dC進行合成，然后在30％氨/ 40％甲月安1：1（AMA）中于65°C脫保護15分鐘。